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PE-2-4-1(PE表示光刻,2表示外徑2英寸,4表示第4種圖案,1表示第1種線寬)

光刻靶標采用高精度光刻加工技術,最小加工尺寸可以達到10μm,加工誤差可以達到±3μm,光刻靶標基底材料為石英玻璃,表面可以刻畫如USAF1951美軍分辨率靶等任意形狀的靶標圖形,而且靶標的目標和背景的對比度可以通過特殊的鍍膜技術實現調整,對比度范圍10%~90%。